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解析X射線光電子能譜分析法的功能及應用領域
更新時間:2014-09-16   點擊次數:791次

解析X射線光電子能譜分析法的功能及應用領域

主要功能及應用領域:

主要用于固體材料的表面元素成份及價態的定性、半定量分析,固體表面元素組成的深度剖析及成像。可應用于金屬、無機材料、催化劑、聚合物、涂層材料礦石等各種材料的研究,以及腐蝕、摩擦、潤滑、粘接、催化、包覆、氧化等過程的研究。

主要附件:UPS、AES、SEM

主要特點:

1. 采用平均半徑165mm的半球型扇形能量分析器(Hemispherical Sector Analyzer,HSA)和180°球鏡能量分析器(Spherical Mirror Analyzer,SMA)。提高光電子的傳輸效率,增加能量分辨率。

2.羅蘭圓直徑500mm的大束斑Al單色X射線源和內置掃描板的多組元靜電透鏡。不移動X射線照射束斑和樣品,通過直接改變光電子的采集區域達到選區分析的目的。只要保證加在掃描板上的偏壓電路保持穩定,則采樣區域的重復就可以得到保證。

3.的磁沉浸透鏡和的低能電子荷電中和系統。由于大面積的X射線照射使得光電子發射相對分散,而且螺旋狀升降的電子云會地補償荷電效應,從而可以在操作上只需設置一個“普適”的中和參數,就可以適用于99%以上的絕緣樣品。

4.采用了新一代的128通道的率檢測器——延遲線檢測器(Delay-Line Detector,DLD),使得該儀器可以超快速分析,實現收譜、成像、快拍(Snap Shot)功能。成像模式能夠提供256×256像素、空間分辨率小于3μm的二維圖像。

1.氫、氦元素不能檢測;

2.樣品要求:

(a) 無磁性;

(b) 無放射性;

(c) 無毒性;

(d) 無揮發性物質(如單質Na, K, S, P, Zn, Se, As, I, Te, Hg或者有機揮發物),避免對高真空系統造成污染;不大量放氣(尤其腐蝕性氣體);若含有高揮發性分子或者coating,請務必先自行烘烤抽除;

(e) 厚度小于2mm;

(f) 固體薄膜或塊狀固體樣品切割成面積大小為5mm×8 mm;

(g) 粉末樣品壓片(直徑小于8mm),如無法成形,粉末要研細,且不少于0.1g;

3.樣品處理注意事項:

(a) 樣品分析面確保不受污染,可使用異丙醇,丙酮,正己烷,或三氯甲烷溶液(均為分析純)清洗以達到清潔要求;

(b) 使用玻璃制品(如表面皿、稱量瓶等)或者鋁箔盛放樣品,禁止直接使用塑料容器、塑料袋或紙袋,以免硅樹脂或纖維污染樣品表面;

(c) 制備或處理樣品時使用聚乙烯手套,禁止使用塑料手套和工具以免硅樹脂污染樣品表面;
4.有關檢測結果的分析,中心提供分析軟件和手冊,指導用戶根據樣品情況自行處理。

5.送樣前請先根據樣品測試要求填好“XPS樣品信息登記表”,表格下載從中心表格下載處下載。

 

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